Applied Materials Centura AP DPS II Metal

Wafer size: 300mm

Asset HDD not included

Tool has been de-installed and is stored in an off-site warehouse

[Chamber A] 

Chamber type:DPS2 G1

Gas config.(sccm)=MFC full scale

BCL3(200）/CL2（200）/O2(50)/N2（50）/

SF6（300）/CHF3（50）/CF4（200）/AR（400）

Source 13.56MHz, max 3000 W

Bias 13.56MHz Hz, max  1500 W

Lid Temp Control ~95℃

ESC Temp Control ~85℃

[Chamber B]

Chamber type:DPS2 G1

Gas config.(sccm)=MFC full scale

BCL3(200）/CL2（200）/O2(50)/N2（50）/

SF6（300）/CHF3（50）/CF4（200）/AR（400）

Source 13.56MHz, max 3000 W

Bias 13.56MHz Hz, max  1500 W

Lid Temp Control ~95℃

ESC Temp Control ~85℃

[Chamber C]

Chamber type:ASP

Gas config.(sccm)=MFC full scale

CF4（50）/O2(10000）/N2（1000）

H2O Vapor 3000sccm

Power max 3000 W

[Chamber D]

Chamber type:ASP

Gas config.(sccm)=MFC full scale

CF4（50）/O2(10000）/N2（1000）

H2O Vapor 3000sccm

Power max 3000 W